CP+日本国际摄影器材与影像展览会，是由日本相机与影像产品协会（CIPA）组织。本届于2017年2月23日-26日在日本神奈川县横滨市的PACIFICO横滨会展中心举办。
CP+是国际上顶级的影像盛会，汇集了世界顶级的影像器材及冲印、输出、图像处理设备以及软件等周边行业。
耐司在中国光学滤镜系统行业深耕十一年，再度受邀出席本次展会，向全世界展现中国光学滤镜系统的强劲实力。
耐司新品亮相
作为拥有多项技术专利的名族光学滤镜系统厂商，耐司NiSi第四次受邀参与日本CP+展会。本次展会耐司NiSi发布一大波超乎想象的新品亮相日本CP+展会。
日本影友可以在NiSi耐司展区现场体验100系统方镜套装盒，长焦镜头专用UV保护镜 ，适马12-24 F4 滤镜系统以及万众期待的神秘新品。
耐司特约研讨会
CP+展会期间2月23-26日耐司专场研讨会，耐司诚邀日本四位知名摄影师出席：金武武、谷田 洋史、岩田 陽、山本 高裕分享摄影心得和交流滤镜使用技巧。
CP+场地指南
▲图为2017CP+耐司NiSi滤镜展区位置示意图
【黄色标识处】
CP+ CAMERA & PHOTO IMAGING SHOW
2017
相机及影像的世界首演展览会
耐司诚邀各位驻日华人和海外各国媒体、摄影师、器材经销商前往NiSi耐司展区交流洽谈，您可以通过NiSi耐司的Facebook和我们联系。
此外您还可以通过NiSi官方微信公众号和新浪微博@NiSi耐司高品质滤镜给我们私信、留言。
